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美国托尔国际磁控溅射系统
折 扣 率: 0
最后更新:2015-01-28
关 注 度:2978
生产企业:天津冠世缘科技发展有限公司
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产品详细介绍配置方案:
    该配置方案是基于薄膜沉积的多枪溅射系统。腔室采用最佳的D字型设计,这种设计可以更方便的靠近溅射枪,方便更换靶材和基片样品。更重要的是这种设计可以使腔体小型化,灵活方便,也可以使任何组件和样品方便进出,达到最佳的尺寸和便利性的结合。300L/S的大抽速分子泵,可以在15分钟
内使真空度达到开始沉积模式,40分钟内真空度好于10-6 Torr,极限真空10-7Torr。
    比较重要的一点,磁靶之间要避免彼此间的交叉污染,因此每个磁靶配备独立的挡板是不可或缺的,加上磁控枪位于顶部,样品台位于底部,实现了无污染的沉积过程。DC直流靶和RF射频靶的结合,可以沉积几乎所有的材料,比如Ti,Ta, Cr, W, Nb, Al, Au, Pt等金属和WO,T aO,SiO2,Si3N4等介电材料。
主要配置与参数:
1) 工艺腔室- 304L不锈钢材质,前开门设计,便于更换靶材,更容易靠近样品台和厚膜仪、热偶、进气口等。配有不锈钢筛网的4”直径的观察窗方便监测工艺过程。腔室外壁接有分子泵,真空计,排气
阀,进气口等。样品台可以0-20 rpm 旋转,这大大提高了薄膜的均匀性。样品台最大加热温度600°C ,这可以提高成膜质量。额外的空法兰,用于升级连接其他组件。
2) 真空系统- 由机械泵和抽速300 l/s的分子泵组成。这样的真空组合,可以实现基础真空10-6Torr,排气阀与真空泵间安全互锁。
3) 样品台: 样品台尺寸4.5” 直径,可以承载一个4”直径的样品或多个更小的样品。样品台可加热600°C并可以每分钟旋转20转,保证了成膜质量和均匀性。样品台
配有挡板。
Sample holder for 4” diameter or any smaller/flat/irregular shape samples within 4” diameter range 
Spring clips for holding samples 
Substrate rotation (0-20 rpm) 
Motorized Substrate Shutter 
IR-Quartz Lamp Substrate heating up to 600°C. 
4) 磁控枪- 3个直径 3” 磁控枪, 每个枪有独立的挡板,可以沉积介电材料,导体材料和半导体材料等。为了得到最佳的沉积速率,样品台和靶之间的距离可调。
THREE, 3” Angstrom Sciences IC
Magnetron Gun, FLEX Style 
Three motorized shutters and shields for sources 
5) 电源功率- 2个 1200 W DC直流电源用于金属沉积比如Ti, Ta, Cr, W, Nb, Al, Au, Pt等。一个 300 W 13.56 MHz RF射频电源及控制和匹配网络用于金属氧化物像 ZnO, SiO2 和ITO等的沉积。射频电源配有自动匹配网络,使反向功率最小化。
One, 300 Watt RF power supply 
RF auto-matching network and controller 
Two, 1200 Watt DC power supply 
6) 气路-两路气路带有质量流量控制器、截止阀,用于Argon氩气和 Oxygen氧气或其他工艺气体。
 Two mass flow controllers for Argon and other process gases (Non-Corrosive & Non-Hazardous) 
7) 真空计- 全量程真空计测量范围760 ~ 10-9 Torr。能够测量真空和溅射时氩气
的压力。
  Full range combination gauge, cold cathode and convection enhance Pirani gauge,
measuring from 760 to 10-9 Torr with Torr International readout. 
8) 膜厚仪 FTM 2000- 两个水冷石英晶体膜厚仪,实时监测沉积速率和膜厚。
  FTM-2000 for display and control 
  Two water cooled quartz crystal thickness sensor with cable oscillator 
9) 控制面板- 容易控制,安全互锁,便于维护。所有工艺参数都可在前面板实时显示。
 Interlocked  controls for safety 
  Displays and operating parameters
10)水电气要求-
电力:所有的泵、控制器和电源功率需要 220V, single phase, 50 Hz。
水:需要9 l/min at 18-22°C and 3-4 atm冷却水或者配备冷水机用于磁控枪、膜厚仪和分子泵的冷却。
气:5atm压缩空气,排气建议使用1 atm干燥氮气。
220V, 50Hz, 20Amp, single phase (subject to change based on final configuration) 
Process gases 1 atm, ¼” tube, Swagelok Fitting or Pisco Fitting 
Compressed Air, at 5-6atm 
Water at 18-22oC, 3-4 atm, 9 l/min, 3/8” tube Pisco Fitting 
Dry Nitrogen for venting, regulated at 1 atm, ¼” tube Pisco Fitting 
天津冠世缘科技发展有限公司
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加入时间:2015-01-27
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