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最后更新：2019-05-14
关 注 度：4138
生产企业：北京亿诚恒达科技有限公司
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产品详细介绍超高纯气体纯化技术是有色金属研究总院“十三五”重点产业化方向。在“十二五”期间军工项目科研成果基础上研发的气体纯化材料，具有处理量大、去除杂质种类多、吸附深度大、使用寿命长等优点，并以此为核心技术开发出多个型号的惰性气体、氢气和氮气等超高纯气体纯化装置。同时，有研总院自身具备不断创新的研发能力，成套的纯化材料生产、纯化器组装技术，以及完善的纯化器性能测试条件，可根据用户需求设计完整解决方案、定制非标产品，并提供各项性能检测服务，目前产品已应用于中国科学院理化所、中国核工业集团、西南化工研究设计院、北京师范大学、北京航空航天大学、北京科技大学、国家有色金属材料检测中心，哈尔滨师范大学等单位获得应用。
UP10M工业用超高纯气体纯化器采用活性金属为化学吸附剂，当原料气通过活性金属纯化床时，气体中O 2，H2O，N2，CO，CO2，CH4等杂质气体与活性金属发生化学吸附反应，根据原料气纯度不同，一次纯化后出口气体纯度即达到 7N-8N，可实现无人值守全自动运行，并具有实时监测、故障报警和反馈等功能。为保证产品质量，纯化器系统管路连接全部采用 Swagelok 全自动轨道焊机焊接，漏率低于 10－9 Pa；关键部件焊接、组装、生产均在千级超净环境中进射流冲蚀试验机便于在各种条件下测定的磨损率。磨损率可 以用来确定在给定操作条件的最佳材料。它也可以被用来预测使用寿命和寿命周期成本。
UP系列气体纯化器
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委托上海正帆科技公司对 GRINM-UP1L 氩气纯化器性能检测结果
气体类型
H2
O2/Ar
N2
CH4
CO
CO2
H2O
单位
原料气
0.074
<0.01
0.248
<0.01
<0.01
<0.01
未测试
ppm
纯化后
<0.01
<0.01
<0.01
<0.01
<0.01
<0.01
<0.033
ppm
部分用于现场照片：
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山西中升钢厂光谱仪配套UP10M使用现场，分析用气体纯度达到光谱仪检测所需的最高级的绿色。
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北京科技大学CVD设备用的多台UP1L氩气纯化器
4.jpg
西南化工研究院定制 20MPa/30Nm3 氩气纯化器
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搭载氢气纯化的电解水制氢/在线纯化系统，用于人造钻石生产高纯氢场合
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UP10M工业用超高纯气体纯化器产品参数：
l 原料气纯度要求：≥99.999%，He/Ar/H2 /N2
l 产品气纯度：≥99.99999%
l 产品气杂质含量：
H2O ≤5ppb
O2 ≤10ppb
N2 ≤10ppb（原料气非 N2 ）
H2 ≤10ppb（原料气非 H2 ）
CO ≤10ppb
CO2 ≤10ppb
CH4 ≤10ppb
NMHC ≤10ppb
l 最大工作流量：≤10Nm3 /h，可定制2-30Nm3 /h
l 阀门：EP 级气动隔膜阀
l 内置颗粒过滤器：2 微米
l 显示屏：组态控制软件，触摸屏工业计算机控制
l 最大工作压力：2.0MPa，氩气可定制20兆帕高压
l 出入口气体压差：0.2MPa
l 进出气接口：1/4″VCR
l 纯化柱及管路：EP级316不锈钢
l 管路连接：Swagelok 自动轨道焊接
l 电源电压及功率：220V-380V，10-20kw
l 产品外形尺寸：500×700×1600mm
气体纯化器是集成电路、LED、太阳能板、光纤、燃料电池等制造工艺中必不可少的重要装备，并可有效提高离子溅射、薄膜生长、焊接、配气等多项技术的工艺性能。UP10M 工业用超高纯气体纯化器系列主要用于提供工业生产、分析测试中的超高纯度工艺气、保护气等，也是气体配制行业必不可少的关键设备之一。
气体种类
产品用途
应用领域
He
稀释气纯化
半导体制造业中光刻、干刻、化学气相沉积工艺中混合气
Ar
等离子体气体、载气纯化
半导体制造业中干刻蚀、离子注入等 工艺中等离子体气体，直读光谱仪载气
N2
稀释气、检漏气纯化
半导体制造业中稀释氧化工艺、气体浓度调节、检漏气体
H2
还原气、反应气纯化
IC、LED 等制造业中外延工艺和扩散工艺气体 |
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| 加入时间：2016-10-20
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