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折 扣 率： 0
最后更新：2015-01-28
关 注 度：2803
生产企业：北京汇中顺成科技有限公司
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产品详细介绍配置方案：
该配置方案是基于薄膜沉积的多枪溅射系统。腔室采用最佳的D字型设计，这种设计可以更方便的靠近溅射枪，方便更换靶材和基片样品。更重要的是这种设计可以使腔体小型化，灵活方便，也可以使任何组件和样品方便进出，达到最佳的尺寸和便利性的结合。300L/S的大抽速分子泵，可以在15分钟
内使真空度达到开始沉积模式，40分钟内真空度好于10-6 Torr，极限真空10-7Torr。
比较重要的一点，磁靶之间要避免彼此间的交叉污染，因此每个磁靶配备独立的挡板是不可或缺的，加上磁控枪位于顶部，样品台位于底部，实现了无污染的沉积过程。DC直流靶和RF射频靶的结合，可以沉积几乎所有的材料，比如Ti,Ta, Cr, W, Nb, Al, Au, Pt等金属和WO，T aO，SiO2，Si3N4等介电材料。
主要配置与参数:
1) 工艺腔室- 304L不锈钢材质，前开门设计，便于更换靶材，更容易靠近样品台和厚膜仪、热偶、进气口等。配有不锈钢筛网的4”直径的观察窗方便监测工艺过程。腔室外壁接有分子泵，真空计，排气
阀，进气口等。样品台可以0-20 rpm 旋转，这大大提高了薄膜的均匀性。样品台最大加热温度600°C ，这可以提高成膜质量。额外的空法兰，用于升级连接其他组件。
2) 真空系统- 由机械泵和抽速300 l/s的分子泵组成。这样的真空组合，可以实现基础真空10-6Torr，排气阀与真空泵间安全互锁。
3) 样品台: 样品台尺寸4.5” 直径，可以承载一个4”直径的样品或多个更小的样品。样品台可加热600°C并可以每分钟旋转20转，保证了成膜质量和均匀性。样品台
配有挡板。
Sample holder for 4” diameter or any smaller/flat/irregular shape samples within 4” diameter range
Spring clips for holding samples
Substrate rotation (0-20 rpm)
Motorized Substrate Shutter
IR-Quartz Lamp Substrate heating up to 600°C.
4) 磁控枪- 3个直径 3” 磁控枪, 每个枪有独立的挡板，可以沉积介电材料，导体材料和半导体材料等。为了得到最佳的沉积速率，样品台和靶之间的距离可调。
THREE, 3” Angstrom Sciences IC
Magnetron Gun, FLEX Style
Three motorized shutters and shields for sources
5) 电源功率- 2个 1200 W DC直流电源用于金属沉积比如Ti, Ta, Cr, W, Nb, Al, Au, Pt等。一个 300 W 13.56 MHz RF射频电源及控制和匹配网络用于金属氧化物像 ZnO, SiO2 和ITO等的沉积。射频电源配有自动匹配网络，使反向功率最小化。
One, 300 Watt RF power supply
RF auto-matching network and controller
Two, 1200 Watt DC power supply
6) 气路-两路气路带有质量流量控制器、截止阀，用于Argon氩气和 Oxygen氧气或其他工艺气体。
Two mass flow controllers for Argon and other process gases (Non-Corrosive & Non-Hazardous)
7) 真空计- 全量程真空计测量范围760 ~ 10-9 Torr。能够测量真空和溅射时氩气
的压力。
Full range combination gauge, cold cathode and convection enhance Pirani gauge,
measuring from 760 to 10-9 Torr with Torr International readout.
8) 膜厚仪 FTM 2000- 两个水冷石英晶体膜厚仪，实时监测沉积速率和膜厚。
FTM-2000 for display and control
Two water cooled quartz crystal thickness sensor with cable oscillator
9) 控制面板- 容易控制，安全互锁，便于维护。所有工艺参数都可在前面板实时显示。
Interlocked controls for safety
Displays and operating parameters
10）水电气要求-
电力：所有的泵、控制器和电源功率需要 220V, single phase, 50 Hz。
水：需要9 l/min at 18-22°C and 3-4 atm冷却水或者配备冷水机用于磁控枪、膜厚仪和分子泵的冷却。
气：5atm压缩空气，排气建议使用1 atm干燥氮气。
220V, 50Hz, 20Amp, single phase (subject to change based on final configuration)
Process gases 1 atm, ¼” tube, Swagelok Fitting or Pisco Fitting
Compressed Air, at 5-6atm
Water at 18-22oC, 3-4 atm, 9 l/min, 3/8” tube Pisco Fitting
Dry Nitrogen for venting, regulated at 1 atm, ¼” tube Pisco Fitting |
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| 会员级别：免费会员 |
| 加入时间：2012-04-05
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