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產(chǎn)品型號(hào)：rh1
產(chǎn)品代碼：1
產(chǎn)品價(jià)格：1
產(chǎn)品編碼：1
計(jì)量單位：1
折 扣 率： 1
最后更新：2015-06-17
關(guān) 注 度：6245
生產(chǎn)企業(yè)：容智科技
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 與企業(yè)聯(lián)系時(shí)請(qǐng)告知該信息來(lái)自教育裝備網(wǎng)！ |
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹壓電陶瓷微位移致動(dòng)器-Piezoelectric Micro-displacement
壓電陶瓷的特點(diǎn):
容性負(fù)載,驅(qū)動(dòng)電壓在０到１５０Ｖ
工作溫度在-20℃~120℃,
輸出位移小，輸出力大
響應(yīng)速度右在微秒級(jí)
驅(qū)動(dòng)要求直流穩(wěn)壓電源
根據(jù)驅(qū)動(dòng)的方式不同可輸出直線位移，也可以作為震蕩源使用
主要應(yīng)用:
微型機(jī)械制造、超精密加工
集成電路制造、生物工程
醫(yī)療科學(xué)
光學(xué)微處理系統(tǒng)，光纖對(duì)接
航空航天領(lǐng)域
掃描探針顯微鏡
如有特殊溫度要求請(qǐng)與我們聯(lián)系
壓電陶瓷實(shí)物圖
壓電陶瓷外形尺寸
疊堆型壓電陶瓷選型表
參 數(shù) 型 號(hào)
外形尺寸A×B×L［mm］±2%
標(biāo)稱位移Ｌμ［um@150V］（±10%）
無(wú)位移輸出最大推力［N@150V］
剛度［N/μm］
壓電陶瓷響應(yīng)頻率f 0 [kHz]
靜電容量［μF］（±20%）
RP150/3×3/5
3×3×6
5
330
66
90
0.15
RP150/3×3/10
3×3×10
10
330
33
70
0.35
RP150/3×3/15
3×3×16
15
330
22
50
0.50
RP150/3×3/20
3×3×20
20
330
16.5
45
0.70
RP150/5×5/5
5×5×6
5
900
180
55
0.40
RP150/5×5/10
5×5×10
10
900
108
50
0.60
RP150/5×5/20
5×5×18
20
900
60
25
1.00
RP150/5×5/30
5×5×28
30
900
38
10
2.00
RP150/5×5/40
5×5×38
40
900
28
5
3.00
RP150/5×5/50
5×5×48
50
900
18
4
3.60
RP150/5×5/60
5×5×58
60
900
15
3
4.20
RP150/7×7/10
7×7×10
10
1800
216
25
1.20
RP150/7×7/20
7×7×18
20
1800
120
10
2.00
RP150/7×7/30
7×7×28
30
1800
77
5
3.20
RP150/7×7/38
7×7×32
38
1800
68
4
3.60
RP150/7×7/50
7×7×42
50
1800
51
2.5
5.00
RP150/10×10/10
10×10×10
10
3600
450
10
2.00
RP150/10×10/20
10×10×18
20
3600
250
3
4.00
RP150/10×10/30
10×10×28
30
3600
160
2
7.00
RP150/10×10/40
10×10×38
40
3600
118
1
10.0
RP150/10×10/50
10×10×48
50
3600
72
0.8
12.0
RP150/10×10/60
10×10×58
60
3600
60
3
4.0
RP150/14×14/10
14×14/10
10
7200
1000
3
4.50
RP150/14×14/20
14×14/20
20
7200
500
1
10.0
RP150/14×14/30
14×14/30
30
7200
333
0.5
16.0
RP150/14×14/40
14×14/40
40
7200
250
0.4
24.0
RP150/14×14/50
14×14/50
50
7200
144
0.3
28.5
RP150/14×14/60
14×14/60
60
7200
120
0.2
33.0
壓電陶瓷選型方法請(qǐng)參考前章資料/驅(qū)動(dòng)電源選型請(qǐng)參考后章資料
注：疊層型壓電陶瓷具有輸出力大，頻率響應(yīng)速度快，輸出位移大，換能效率高，可采用相對(duì)簡(jiǎn)單的電壓控制方式等特點(diǎn)。
官網(wǎng)：http://rznxkj.com/ |
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| 會(huì)員級(jí)別：免費(fèi)會(huì)員 |
| 加入時(shí)間：2009-06-03
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