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产品型号：

VBF-1200X-H8

VBF-1200X-H8 真空管式炉在美国通过CE认证，其水平位置带有一个外口径200mm深度340mm的石英内胆，在真空或各种气氛下温度可达到1100℃，可对6〞以下的半导体晶片进行煅烧或低温退火。该炉体表面温度低、升降温速率快、节能等优点，比一般的真空箱式炉更洁净，真空度能达到更高，是高等院校、科研院所的实验室、工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的的理想设备。

            我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系的要求），不会造成环境污染；

          该产品符合含采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成伤害！

• 高品质惨钼铁铬铝合金作为发热元件，可加热到1100℃
• 高精度不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用
• 不锈钢真空法兰带有高温O型硅胶圈
• 内置30段可编程精密数字温度控制器精确控制加热速率，降温速率和恒温时间。

²        工作温度：1000℃（最高连续使用温度1000℃，极限最高使用温度1100℃最多30分钟）

²        加热元件：高质量的Ni-Cr-Al电阻丝，可加热到1100℃

²        炉管尺寸：8" O.D. x 7.5" I.D x 13.4" L

²        加热范围：7.5" ID x 8.5" Depth (7.6Liter)

²        控温方式：智能化30段可编程控制

²        恒温精度：±2℃

²        工作电源：单相208-240 VAC 50/60HZ

²        外型尺寸：510 x 435 x 425mm

²        净重：80KG

 产品规格：

外形尺寸：510 x 435 x 425mm

净重：80KG