产品详细介绍
显影清洗机
适用对象:硅片 、蓝宝石基片,2-12inch,2-4 cassette/ Batch,25 Pcs/cassette;
适用产业:半导体照明(LED)、半导体材料、半导体分立器件、集成电路、MEMS、有机发光二级管(OLED)等;
控制模式:手动控制模式、自动控制模式;
制程应用:湿法清洗显影制程;
PSS衬底(SPM)清洗机
产能要求: GaN工艺 150000片/月和PSS工艺 105000片/月,共计255000片/月(设计机台GaN工艺和PSS工艺各有1道,按照25分钟/run,50片/run。产能共计270000片/月,按照22小时/天, 26天/月计算)满足要求 ;
药液种类:超声波:去光阻液或ITO溶液;511溶液(H2SO4:H2O2:H2O=5:1:1);稀HCl溶液(HCl:H2O=1:5) ;
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